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薬液供給のおける
高清浄度で
安全なポンプ

プロセスの管理は、ウエハーと直接接する液体の管理から始まります。デバイスの微細化と共に、集中供給される薬液への純度の要求は飛躍的に厳しくなります。ポンプによる送液と比べ、加圧による送液方法で生じるウォーターハンマーは、フィルターからの粒子の放出、配管の破損などのリスクの原因として考えられます。半導体製造用のポンプシステムの中で、Levitronix®ポンプは、機械的なベアリングを無くし、パーティクルをほとんど発生させないため、先端半導体洗浄での標準となっています。

Levitronix®ポンプシステムは、高い生産性を
実現する為に、高清浄度で安全な送液が要求される
薬液供給アプリケーションの為に設計されました。
利点

高清浄度ポンプ

極めて低い粒子脱落

Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。

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zoom
5 gpmおよび40 psigで大型ポンプシステムの下流で測定された粒子サイズ分布

安全な送液

ウォーターハンマーなし

ポンプによる送液と比べ、加圧容器による送液は、ウォーターハンマーのリスクがあります。ウォーターハンマーは水圧の衝撃により、安全面での問題とフィルターから粒子放出を引き起こす可能性があります。Levitronix®ポンプは、循環ろ過を可能にし、安全性も高めることができます。

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高精製

複数回のろ過

Levitronix®ポンプを循環システムに設置する事により、フィルターを複数回通過する循環ラインを作る事ができ、精製の機会を増やせます。それに比べて、加圧容器システムを利用したワンパスろ過では、コンタミネーションの多くは、液中に残ります。

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