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メタルメッキプロセス
における均一性と
生産性の向上

電子デバイスの小型化に伴い、次世代のチップ設計を開発するために、半導体メッキ業界では、先端のICパッケージング技術を提供してきています。技術向上の維持の為に、均一性、低発塵をコントロールしながらメッキ液のプロセスをポンプシステムは実現しなくてはいけません。Levitronix®のポンプとは違い、機械的に接触するベアリングを有する遠心ポンプでは、液の沈殿物により閉塞によるポンプの故障を生じます。
アクティブ磁気浮上を基本技術としたレビトロニクスのポンプシステムは、脈動がなく定流量であり、装置の稼働率と信頼性を向上させます。機械的なベアリングがない事で、パーティクルをほとんど発生させません。

Levitronix®ポンプシステムは、高い生産性を
実現するために、安定、均一、高純度を
要求されるメッキプロセスの為に設計されました。
利点

高寿命

ベアリングの故障なし

機械的なベアリングを排除することで、局所的に問題を起こす部分を引き起こす機械的摩擦は発生しません。金属が沈殿する可能性のある狭いギャップは存在しません。
低せん断力、滞留部分がないポンプ設計、スムーズなプラスチックの接液部はメタルフリーを実現しています。これらにより、ポンプの寿命を伸ばします。

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左:Levitronix®ポンプを亜硫酸金めっき液で1年間使用した後 右:一般的なマグネットポンプを亜硫酸金めっき液で1か月間使用した後

省フットプリント

マグネットポンプよりも大幅に小さい

高度に統合されたポンプとモーターの設計により機械的なベアリングを無くす事が可能になりました。その結果ポンプのフットプリントを大幅に削除し、限られたスペースへのポンプの設置を可能にします。

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Levitronix® BPS-3とマグネットポンプ(1.5 Bar, 70 Lpm)のサイズ比較

高清浄度

極めて低い粒子脱落

Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。

詳しく
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5 gpmおよび40 psigで大型ポンプシステムの下流で測定された粒子サイズ分布

高信頼性

非常に長いMTBF (>100年)

摩耗するベアリングや消耗するシールはありません。
その結果、装置稼働率が大幅に増加し、プロセス
装置の寿命が延び、メンテナンスコストを削減できます。

製品
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マイクロエレクトロニクス用ポンプ

超高純度ベアリングレスポンプ

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マイクロエレクトロニクス用流量コントローラ

超高純度ベアリングレス流量コントローラ

マイクロエレクトロニクス用インライン形超音波流量計

PFAインライン形超音波流量計

マイクロエレクトロニクス用クランプオン流量計

PFAチューブ用の非侵襲超音波流量センサ

マイクロエレクトロニクス用昇圧ユニット

ターンキー昇圧ユニットと制御

マイクロエレクトロニクス用ファン

化学的耐性ベアリングレスファン

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