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半導体
ウェットプロセスにおける
高清浄度ポンプ

半導体製造でのコンタミネーションの影響が大きくなる事への対応として、ウエハー洗浄は最も重要なプロセスの1つとなっています。プロセス装置からの粒子汚染を最小化する事は、歩留まりを上げるために最も重要です。Levitronix®ポンプと比較して、空気圧ポンプはチェックバルブ、ベローズ、ダイヤフラム、およびその他のコンポーネント摩擦により摩耗します。
摩耗によりパーティクルシェディングが発生し、それはウエハーの欠陥の原因になる可能性があります。さらに、空気圧ポンプによる脈動は、放出粒子の増加によりフィルターの性能を低下する事が考えられます。

Levitronix ®ポンプシステムは、高い生産性を
実現する為に、高清浄度で脈動がない送液が
要求される半導体ウェットプロセスの為に
設計されました。
利点

高清浄度ポンプ

極めて低い粒子脱落

Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。

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5 gpmおよび40 psigで大型ポンプシステムの下流で測定された粒子サイズ分布

ろ過性能の向上

脈動がない送液

圧力と流れの脈動は、フィルターからの粒子放出を増加させ、その寿命を制限することが知られています。オープンなポンプヘッド設計、遠心ポンプの原理、バルブレスにより、完全に脈動のない流れは、フィルター性能を向上させ、その寿命を増加させます。

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圧力脈動の関数としての保持効率

低金属抽出

小接液面積

Levitronix®ポンプの接液面積は、同等性能の空気圧ポンプよりも数倍小さいです。これは酸へ抽出を減らし、微量な金属の浸出を減らす事ができます。

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2つのダイアフラムポンプと3つのLevitronixポンプ微量金属抽出の比較
製品
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