半導体製造でのコンタミネーションの影響が大きくなる事への対応として、ウエハー洗浄は最も重要なプロセスの1つとなっています。プロセス装置からの粒子汚染を最小化する事は、歩留まりを上げるために最も重要です。Levitronix®ポンプと比較して、空気圧ポンプはチェックバルブ、ベローズ、ダイヤフラム、およびその他のコンポーネント摩擦により摩耗します。摩耗によりパーティクルシェディングが発生し、それはウエハーの欠陥の原因になる可能性があります。さらに、空気圧ポンプによる脈動は、放出粒子の増加によりフィルターの性能を低下する事が考えられます。
Levitronix®ポンプシステムは、高い生産性を実現する為に、高清浄度で脈動がない送液が要求される半導体ウェットプロセスの為に設計されました。
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