Levitronix® BPS-iF
マイクロエレクトロニクス
ウェットプロセス向け
超高純度ベアリングレス
流量コントローラ

Levitronix®BPS流量コントローラは、マイクロエレクトロニクスのウェットプロセスで繊細な流体の超清浄処理用に設計されています。磁気浮上技術に基づいて、ファンインペラはモータの磁場によって浮上し、駆動します。広いギャップにより可動部品間の機械的接触が存在せず、摩耗がないことを保証します。摩耗、消耗するベアリングやシールは存在しません。
インペラとケーシングは、いずれも耐薬品性高純度フッ素樹脂から作られています。流体流量と圧力は、インペラ速度を電子的に調節することによって正確に制御されます。

Levitronix® BPS流量コントローラは、半導体の
ウェットプロセスとして、製品の歩留まり
を改善する様々な利点を提供します。
流量コントローラ: 紹介ビデオ
利点

最も清浄なポンプ

業界実績より証明

インペラとポンプヘッドケーシングの間に機械的な
接触がないため、摩耗がなく、パーティクルの発生も
理論上、事実上ありません。

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5 gpmおよび40 psigで大型ポンプシステムの下流で測定された粒子サイズ分布

金属汚染が非常に少ない

エア駆動ポンプより大幅に低い

Levitronix®ポンプの接液面積は、
同等のエア駆動ポンプの数分の1です。

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2つのダイアフラムポンプと3つのLevitronixポンプ微量金属抽出の比較

低せん断計

スラリーと繊細なめっき液に最適

機械的なベアリング、狭いギャップ、亀裂、デッド
ゾーンがなく、滑らかな表面をしているので、
敏感な液体の穏やかな処理が可能となります。

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0.56 µm以上の粒子に対するポンプの影響 (線形スケール)

脈動の無い送液

フィルター性能の向上

オープンポンプヘッド設計、高流量分解能、遠心
ポンプ原理、およびバルブがないため、脈動のない
流れが得られ、それにより超高純度フィルターの
性能が向上します。

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圧力脈動の関数としての保持効率
利点

流量性能に悩まされることのない – 非常に正確な流量と圧力
Levitronix®ポンプは、可変速度と高い解像度により、
広い動作範囲上において、流量または圧力の正確な
制御を可能にします。

高い制御性と広い流量範囲

非常に高い信頼性
摩耗するベアリングや故障するシールがないため、機器の稼働時間が長くなり、プロセス機器の寿命が延び、メンテナンスコストが削減されます。

非常に長いMTBF (>100年)

数ml/minから最大流量まで
BPS-iFシステムは、わずか数ml/minから最大流量までの
スムーズな流れを正確に制御および維持し、
競合するポンプの中で最高のターンダウン比を実現します。

最高のターンダウン率

エア駆動式ポンプよりも大幅に小さい
ポンプとモーターの高度に統合された設計と
機械的なベアリングがないことにより、設置面積が大幅に
削減され、限られたスペースに設置できます。

省フットプリント

スマートマニュファクチャリング用のスマートポンプ
BPS-iFシステムは、予知保全と工場全体のシステム統合に
理想的な高性能データ取得を可能にします。

データ取得とデータ監視

エアー駆動ポンプと比べて非常に少ない振動と騒音
インペラとポンプケーシングの磁気カップリングは、振動を
実質的に発生させることがなく、非常に静かな動作を
もたらします。

低騒音と低振動

25年以上の経験
Levitronix®ポンプは、バイオ医薬品製造など、他の非常に
要求の厳しい産業でもしっかりと技術確立され、
実績と経験を積んでいます

長い歴史

性能曲線
性能曲線
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