BPS-iF100 マイクロエレクトロニクス
ウェットプロセス向け
超高純度流量コントローラ

最大流量 20 l/min
最大圧力 0.2 MPa
流量制御レンジ 4 / 8 / 20 l/min
最高流体温度 90° C
接液部品材質 PFA

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Levitronix®BPS-iF100流量コントローラは、マイクロエレクトロニクスのウェットプロセスで繊細な流体の超清浄処理用に設計されています。磁気浮上技術に基づいて、ファンインペラはモータの磁場によって浮上し、駆動します。広いギャップにより可動部品間の機械的接触が存在せず、摩耗がないことを保証します。摩耗、消耗するベアリングやシールは存在しません。
インペラとケーシングは、いずれも耐薬品性高純度フッ素樹脂から作られています。流体流量と圧力は、インペラ速度を電子的に調節することによって正確に制御されます。

性能曲線
性能曲線
利点

業界実績より証明 – 半導体製造 (およびそれ以降) で
最も超高純度ポンプ!
インペラとポンプヘッドケーシングの間に機械的な接触が
ないため、摩耗がなく、パーティクルの発生も理論上、
事実上ありません。

極めて低い粒子脱落

エアー駆動式ポンプよりも大幅に低い
Levitronix®ポンプの液体に触れる表面積は、同等パワーの
エアー駆動式ポンプよりも圧倒的に小さいです。

非常に低い金属汚染

非常に高い信頼性
摩耗するベアリングやシールがなく、装置の稼働時間、
プロセス機器の寿命を延ばし、メンテナンスコストを
削減します。

非常に長いMTBF (>100年)

フィルターパフォーマンスの向上
オープンポンプヘッド設計、高流量分解能、遠心ポンプの
原理、バルブの不在などは、脈動のない流量を実現し、
フィルターパフォーマンスを向上させます。

脈動のない流量

エアー駆動ポンプよりもかなり小さい
機械的なベアリングの欠如と、ポンプとモータを高度に
組み合わせ統合した設計は、フットプリントを
大幅に削減し、限られたスペースでの
設置を可能にします。

省フットプリント

スラリーと繊細なめっき液に最適
機械的なベアリング、狭いギャップ、裂け目、
デッドゾーンなどの不在、および滑らかな接液部表面は、
繊細な液体に低いストレスでの処理を可能にします。

低せん断計

流量スロットルが不要 – 非常に正確な流量圧力
Levitronixポンプは、可変速度と高分解能により、
広い動作範囲で流量または圧力を正確に制御できます。

高い可制御性と最高の流量レンジ

25年以上の経験
Levitronix®ポンプは、バイオ医薬品製造など、他の非常に
要求の厳しい産業でもしっかりと技術確立され、
実績と経験を積んでいます

長い歴史

スマートマニュファクチャリングのための
スマートポンプシステム

BPS-iFシステムは、予測メンテナンスと工場全体のシステム
統合に最適な、高性能データ取得を可能にします。

データマイニングとステータス監視

エアー駆動ポンプと比べて非常に少ない振動と騒音
インペラとポンプケーシングの磁気カップリングは、振動を
実質的に発生させることがなく、非常に静かな動作を
もたらします。

低騒音と低振動

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