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안전한 벌크 케미컬 공급용

고청정 펌프 시스템

완벽한 공정의 관리는 웨이퍼와 직접적으로 접촉하는 유체에서부터 시작됩니다. 반도체의 소형화에 따라, 벌크 케미컬의 순도와 공급 시스템에 대한 요구사항이 크게 늘어나고 있습니다. 가압 탱크는 펌프와는 다르게 수격 현상으로 인한 파티클 생성 및 다양한 안전 문제에 대한 우려가 있습니다. 모든 반도체 제조용 펌프 시스템을 통틀어, Levitronix® 펌프는 기계적 베어링이 없어 파티클을 발생시키지 않으며, 이를 통하여 고청정 Wet 공정의 산업 표준이 되었습니다.

Levitronix® 펌프 시스템은 초 고순도의 안전한 처리를 통해 최고의 수율 확보가 필요한 다채롭고 까다로운 벌크 케미컬 공급 및 이송 공정을 위해 설계되었습니다.
장점

가장 깨끗한 펌프

파티클 발생이 없음

Levitronix® 펌프 시스템은 자기 부상을 기반으로 합니다. 임펠러와 펌프 헤드 케이싱 사이에 기계적인 마찰이 없어 마모를 발생시키지 않으므로, 사실상 파티클을 생성하지 않습니다.

추가 정보

공정 안전성

수격 현상이 없음

가압 탱크는 펌프와는 다르게 수격 현상에 대한 위험이 있는 데드 헤드 시스템 내에 설치가 됩니다. 수격 현상은 큰 수압 충격을 발생시켜 필터의 파티클 필터링 효과를 감소시키고 여러가지 안전 관련 문제를 발생시킬 수 있습니다. Levitronix® 펌프를 통한 순환시스템의 구성으로 필터의 성능을 향상시키고 안전성을 극대화할 수 있습니다.

추가 정보

케미컬 정제 효과 증가

반복적인 필터링 사이클

순환 시스템에 Levitronix® 펌프를 적용하여, 반복적인 필터링 사이클을 통한 유체의 정제 효과를 증가시킬 수 있습니다. 이에 비해, 가압 탱크를 통한 단일 필터링 진행 시, 유체에 다량의 오염 물질이 남게 됩니다.

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Levitronix® 순환 구성을 통한 반복 순환 필터링 후의 파티클 농도
제품
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반도체 펌프

고청정 베어링리스 펌프 시스템

반도체 펌프 (솔벤트 공정용)

대전 방지용 베어링리스 펌프 시스템

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반도체 유량 컨트롤러

고청정 베어링리스 유량 컨트롤러

반도체 인라인 유량 센서

PFA 초음파 인라인 유량 센서

반도체 클램프-온 유량센서

PFA 배관용 비 접촉식 초음파 유량 센서

반도체 펌프 탱크 믹서

믹싱과 펌핑을 동시 구현

압력 부스팅 시스템

턴키 방식의 압력 부스팅 & 제어 시스템

반도체 팬

내화학성 베어링리스 팬

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