공정의 무결성 관리는 웨이퍼와 직접적으로 접촉하는 유체에서부터 시작됩니다. 반도체의 소형화가 진행됨에 따라 벌크 케미컬의 순도와 공급 시스템에 대한 요구 조건이 크게 증가하고 있습니다.
펌프와 비교를 했을 때, 가압 탱크의 경우 파티클 발생 및 안전에 문제를 유발할 수 있는 수격 현상에 대한 위험 가능성이 있습니다. 반도체 제조를 위한 모든 펌프 시스템 가운데, Levitronix® 펌프는 기계적 베어링이 없어 파티클을 전혀 발생시키지 않으므로, 고청정 습식 공정에서 산업의 표준이 되었습니다.
Levitronix® 펌프 시스템은 고순도의 안전한 처리가 필요한 벌크 케미컬 이송 공정에서 최고의 수율을 보장할 수 있도록 설계되었습니다.
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