Levitronix® BPS 1세대

반도체 Wet 공정을 위한
고청정 베어링리스 펌프 시스템

 

Levitronix® 1세대 BPS 펌프는 반도체 Wet 공정에서 다양한 유체의 고청정 처리를 위해 설계되었습니다. 자기 부상을 기반으로, 펌프의 임펠러는 모터의 자기장에 의해 부상하고 동작합니다. 동작 부품간 넓은 간격은 기계적 마찰을 발생시키지 않아 마모가 발생하지 않으며, 마모가 될 수 있는 베어링이나 파손될 씰이 없습니다. 임펠러와 케이싱은 모두 내화학성 재료인 고순도 불소중합체 수지로 제작되었습니다. 전자적 임펠러 컨트롤을 통하여, 유체의 유량과 압력은 정밀하게 제어됩니다.

Levitronix® BPS 펌프는 반도체 Wet 공정에 차별화된 이점을 제공하여 제품 수율 향상에 도움을 줄 수 있습니다.
BPS Pumps_LEVITRONIX BPS - 15_Korean_V6_FINAL
장점

가장 깨끗한 펌프

업계 경험으로 입증 - 반도체 제조에서 (반도체 이외의 다른 산업에서도) 가장 깨끗한 펌프

임펠러와 펌프 헤드 케이싱 사이에 기계적인 마찰이 없어 마모를 발생시키지 않으므로, 사실상 파티클을 생성하지 않습니다.

추가 정보
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5 gpm & 40psig 조건의 펌프 후단에서 측정된 파티클 사이즈 분포

극 미량의 금속 오염

공압 펌프에 비하여 현저히 낮음

Levitronix® 펌프의 접액부는 동일 조건 하에서 기타 공압 구동 방식의 펌프에 비하여 현저히 작습니다.

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3종류의 Levitronix 펌프와 2종류의 다이어프램 펌프의 미세 금속 유출 비교 평가

Low Shear 설계

슬러리 및 다양한 도금액에 이상적

부드러운 플라스틱 표면과 더불어 기계적 베어링, 좁은 틈 및 데드존이 없는 디자인을 통해 민감한 유체의 원활한 공급을 제공합니다.

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≥ 0.56 µm 사이즈 파티클에 대한 펌프의 영향 (선형 스케일)

맥동 없는 유량

필터 성능 향상

개방형 펌프 헤드 설계, 넓은 유량 범위, 원심 펌프 고유의 특징 및 밸브를 사용하지 않는 구조로 맥동이 전혀 없는 유량을 제공하여 필터의 성능을 향상시켜 줍니다.

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압력 맥동에 따른 필터 성능 유지 효율

더 이상 유체의 이상 압력 변화가 없습니다
– 매우 정확한 유량 및 압력
다양한 속도 제어와 높은 정밀도로 Levitronix® 펌프는 광범위한 작동 범위에서 정밀한 유량 및 압력의 제어를 제공합니다.

높은 제어성 & 넓은 유량 범위

매우 높은 신뢰성
마모 및 파손이 일어날 수 있는 베어링과 씰이 없어 장비 가동시간이 크게 증가합니다. 이로 인하여 공정 장비의 수명을 연장시키고 유지 보수 비용을 절감할 수 있습니다.

최대 MTBF (100년 이상)

ml/min에서 최대 유량까지
BPS 펌프는 수 ml/min부터 최대 유량까지 균일하고 정확한 유량의 제어 및 유지가 가능하며, 이를 통하여 경쟁 펌프 대비 가장 높은 턴 다운 비율을 제공합니다.

가장 높은 턴 다운 비율

기존 공압 펌프에 비해 현저히 작은 디자인
획기적인 펌프와 모터의 통합 기술 및 베어링리스 디자인을 통하여, 제한된 공간에 설치가 가능하도록
펌프 사이즈에 대한 요구 사항을 크게 개선하였습니다.

작은 설치 공간

25년 이상의 경험으로,
 Levitronix® 펌프는 반도체 제조 또는 바이오 의약품 생산과 같이 매우 다채롭고 까다로운 산업에 확고히 자리잡고 있습니다.

오래된 역사와 경험

스마트 제조를 위한 스마트 펌프
BPS 펌프는 고성능 공정 데이터 수집이 가능하여, 예방 유지 보수 및 공장 전체 시스템에 통합적으로 사용될 수 있습니다.

지속적인 데이터 취합 및 모니터링

공압 펌프에 비하여 현저히 작은 소음
임펠러와 펌프 케이싱의 마그네틱 커플링으로 진동이 거의 발생하지 않아 매우 조용한 펌프 시스템의 동작 조건을 제공합니다.

저 소음 & 저 진동

펌프 성능 곡선
펌프 성능 곡선
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