事実
ぺりスタおよび4ピストンダイアフラムポンプは、チューブの圧縮やバルブの動きなど、可動部品間の機械的接触に基づいています。可動部品間の機械的接触によりせん断応力が発生し、製品の歩留まりが低下する可能性があります。
Levitronix ®ポンプは、可動部品間に機械的接触がありません。
試験条件
Levitronix® PuraLev® 600SUポンプ、4ピストンダイアフラムポンプ、およびぺりスタポンプの粒子発生を評価しました。一定量の超純水が、各ポンプによって、それぞれ16 l/minの流量と1および2.5 barの背圧で再循環されました。 粒子レベルは、選択された時間に測定され、比較されました。
結果
ぺりスタポンプと4ピストンダイアフラムポンプは、PuraLev® 600SUポンプよりも2〜3桁大きい粒子レベルを生成しました。動作条件に関係なく、Levitronix®ポンプの下流の粒子濃度はシステムで検出されたバックグラウンドレベルに近かったです。
16 l/minおよび0.25 MPaでの累積粒度分布。
バイオプロセシング 
マイクロエレクトロニクス 
ポンプ 
流量コントローラ 
流量計 
ミキサー 
ファン 
昇圧ユニット 
プロセスコントローラユニット 
