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Levitronix® BPS-3を用いた純水による初期洗浄のパーティクル洗浄評価 (英)

キーワード:
  • ポンプ
  • フラッシング
  • マイクロエレクトロニクス
  • 粒子の脱落

事実
新しいポンプシステムの洗浄は、初期のパーティクル汚染の防止につながります。ポンプシステムのクリーンアップ品質は、パーティクルレベルを下げるために必要なフラッシュアップ量によって特徴付けられます。

試験条件
Levitronix® BPS-3ポンプの初期洗浄中にパーティクル量を評価しました。ポンプを超純水の供給源に接続し48時間フラッシュを行い、ポンプ下流のパーティクル量を測定しました。

結果
420リットルの水でフラッシュした後、ポンプは0.1パーティクル/ ml未満を達成していました。このポンプのクリーンアップ品質は非常に優れていることを証明しています。

BPS-3ポンプのフラッシュのさまざまな粒子サイズの粒子の累積

Author Dennis Chilcote
Company CT Associates
Document Number PP 577 0487
Pages 3