미디어 센터

미디어 센터로 돌아가기

UPW를 이용한 Levitronix® BPS-3 펌프 시스템의 초기 세정 중 파티클 유출 평가

키워드:
  • 펌프
  • 초기 세정
  • 반도체 공정
  • 파티클 유출

Facts
신규 펌프 시스템의 세정은 초기 파티클 오염을 제거하기 위한 목적으로 진행됩니다. 펌프 시스템의 세정 품질은 파티클 제거를 위해 사용된 세정액의 양에 따라 달라집니다.

Test Condition
Levitronix®BPS-3 펌프의 초기 세정 중 발생되는 파티클 유출값에 대해 평가하였습니다. 펌프를 UPW에 연결하고 48시간 동안 세정 후 펌프 후단에서의 파티클 농도를 측정하였습니다.

Result
420L의 UPW로 세정 후, 펌프 후단에서는 mL 당 1개 미만의 파티클이 추가로 측정되었습니다. 해당 펌프의 세정 품질이 대단히 우수하다는 것을 확인할 수 있습니다.

BPS-3 펌프의 세정 중 발생하는 다양한 사이즈의 누적 파티클 농도

Author Dennis Chilcote
Company CT Associates
Document Number PP 577 0487
Pages 3