BPS-300 マイクロエレクトロニクス用
ウェットプロセス向け
超高純度ベアリングレスポンプ

最大流量 58 l/min
最大圧力 0.25 MPa
最高流体温度 70° C
接液部品材質 PFA, PTFE

Levitronix® BPS-300ポンプシステムはマイクロエレクトロニクスウェットアプリケーションで繊細な液体の高純度プロセス用に設計されています。能動的な磁気浮上技術に基づき、モーターから生まれた磁界により、ポンプインペラは浮上または回転します。ギャップが広いため、可動部品間に機械的な接触が無く摩耗がありません。したがって、破損するベアリングやシール部分がありません。インペラとケーシングは耐薬品性の高純度フッ素樹脂で作られています。流体の流量と圧力は、インペラの回転速度を電子的に調整することにより、正確に制御されます。

性能曲線
性能曲線
利点

業界実績より証明 – 半導体製造 (およびそれ以降) で
最も超高純度ポンプ!

インペラとポンプヘッドケーシングの間に機械的な
接触がないため、摩耗がなく、パーティクルの発生も
理論上、事実上ありません。

極めて低い粒子脱落

エア駆動ポンプより大幅に低い
Levitronix®ポンプの接液面積は、
同等のエア駆動ポンプの数分の1です。

金属汚染が非常に少ない

非常に高い信頼性
摩耗するベアリングや故障するシールがないため、
機器の稼働時間が長くなり、プロセス機器の寿命が延び、
メンテナンスコストが削減されます。

非常に長いMTBF (>100年)

プロセスのための正確な、安定性と信頼性の高い流量と圧力
オープンポンプヘッド設計、高流量分解能、遠心ポンプの
原理、バルブの不在などは、脈動のない流量を実現し、
フィルターパフォーマンスを向上させます。

脈動のない流量

エア駆動式ポンプよりも大幅に小さい
ポンプとモーターの高度に統合された設計と
機械的なベアリングがないことにより、設置面積が大幅に
削減され、限られたスペースに設置できます。

省フットプリント

スラリーと繊細なめっき液に最適
機械的なベアリング、狭いギャップ、亀裂、デッド
ゾーンがなく、滑らかな表面をしているので、
敏感な液体の穏やかな処理が可能となります。

低せん断設計

流量スロットルが不要 – 非常に正確な流量圧力
Levitronixポンプは、可変速度と高分解能により、
広い動作範囲で流量または圧力を正確に制御できます。

高い可制御性と最高の流量レンジ

数ml/minから最大流量まで
BPSシステムは、わずか数ml/minから最大流量までの
スムーズな流れを正確に制御および維持し、
競合するポンプの中で最高のターンダウン比を実現します。

最高のターンダウン率

フィードバックループを作れます
流量計または圧力センサをポンプシステムに統合し、
フィードバックループを作成して、目的のプロセス条件を
自動制御できるようにします。

統合PIコントローラ

25年以上の経験
Levitronix®ポンプは、バイオ医薬品製造など、他の非常に
要求の厳しい産業でもしっかりと技術確立され、
実績と経験を積んでいます

長い歴史

スマートマニュファクチャリング用のスマートポンプ
BPSポンプは、予知保全と工場全体のシステム統合に
理想的な高性能データ取得を可能にします。

データ取得とデータ監視

エアー駆動ポンプと比べて非常に少ない振動と騒音
インペラとポンプケーシングの磁気カップリングは、振動を
実質的に発生させることがなく、非常に静かな動作を
もたらします。

低騒音と低振動

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