Facts
펌프의 접액부 표면이 산성 케미컬에 노출되면 미세 금속이 침출될 수 있습니다. 미세 금속 오염은 반도체 장치의 전기적 특성을 저하시킬 수 있습니다. MagDrive 펌프와 비교하면, Levitronix® 펌프의 접액부는 원심 주조 방법을 통한 생산을 하지 않습니다. 원심 주조는 접액부에 미세 금속 오염을 발생시킬 수 있으며, 이는 실제 펌프 사용 중 미세 금속 오염이 유체로 방출될 수 있음을 의미합니다.
Test conditions
35 % HCl을 추출제로 사용했습니다. 각각의 테스트 동안 펌프를 통한 케미컬의 지속적인 흐름이 유지되었습니다. 각 테스트 전에 기준 샘플을 채취하고 대수 스케일(logarithmic scale)에서 거의 균일한 간격으로 추가 샘플을 채취했습니다. 분석 결과는 추출된 샘플의 누적 질량으로 변환하여 나타냈습니다.
Results
MagDrive 펌프의 표면 오염은 Levitronix®에 비하여 최대 1000배 더 높게 측정되었습니다.
Levitronix 펌프와 2종류의 Magdrive 펌프의 미세 금속 유출 비교 평가
반도체 프로세싱 
바이오 프로세싱 
펌프 
유량 컨트롤러 
유량 센서 
믹서 
팬 
압력 부스터 
공정 제어 기기 
