반도체 생산 공정은 파티클 및 금속 오염에 매우 민감합니다. 반도체 패턴 사이즈가 점점 감소함에 따라 이러한 요구는 더욱 더 증가할 것입니다. 다양한 유형의 펌프가 케미컬 이송, 탱크 순환 라인 및 기타 고청정 공정에서 사용되고 있습니다. 이러한 펌프 중 대다수는 제품 수율을 감소시키거나 순환 라인에서 사용되는 필터의 성능 및 수명에 영향을 줄 수 있는 상당한 양의 파티클을 배출합니다. 또한, 공정에 사용되는 케미컬의 금속 오염은 다양한 수율 관련 문제를 일으킬 수 있습니다. 이 논문에서는 3개 제조업체에서 제공하는 2가지 타입의 고청정 펌프를 사용하여 각각 서로 다른 작동 조건에서의 미세 금속 오염 및 파티클 생성 수준을 평가하였습니다.
반도체 프로세싱 
바이오 프로세싱 
펌프 
유량 컨트롤러 
유량 센서 
믹서 
팬 
압력 부스터 
공정 제어 기기 
