표면 처리

웨이퍼가 cleanroom 에 반입 되거나 공정이 끝난 이후에는 파티클이나 오염물질을 제거하기 위해 세정과정을 거치게 됩니다. 표면 처리 시스템은 클리닝을 필요로 하는 타입에 따라 브러시, 스프레이 등의 여러 방법들 중 하나를 사용하여 파티클을 제거합니다.

IC산업이 300mm제조공정으로 보편화 됨에 따라 표면처리 단계를 위한 싱글 웨이퍼 공정

(SWP)은 기존의 wet bench 공정을 뛰어 넘는 장점들을 제공합니다. 웨이퍼 내의 균일성을 높이고, 웨이퍼 간의 재현성을 높이며, 공정 제어를 단순하게 하고 공정 시간을 단축 시키는 등의 장점들이 이미 입증되었습니다.

그러나 batch 공정과 경쟁하기 위해서는 파티클이 적게 생성되어야 하고 일정한 유량이 요구되며 이러한 사항들에 의하여 공정 수율이 결정됩니다. 또한 복잡하게 설계된 장비에 있어서 제품의 크기와 수명은 운전비용에 직결됩니다.

single 웨이퍼 처리 – 빠른 응답 시간을 갖는 Levitronix 고순도 동적 유량 제어 시스템은 광범위한 공정작업에 기여하고 있습니다. 정확성과 재현성이 있어 신뢰할만한 공정을 보장해 드립니다. 출처 : SPS
single 웨이퍼 처리 – 빠른 응답 시간을 갖는 Levitronix 고순도 동적 유량 제어 시스템은 광범위한 공정작업에 기여하고 있습니다. 정확성과 재현성이 있어 신뢰할만한 공정을 보장해 드립니다. 출처 : SPS
약액의 On-line 혼합
약액의 On-line 혼합
데이터 출처 : CT Associate Inc
데이터 출처 : CT Associate Inc
Levitronix와 Diaphragm 펌프의 크기 비교
Levitronix와 Diaphragm 펌프의 크기 비교

Levitronix 펌프는(검정선) 다른 최첨단 기술의 펌프보다 더 적은 파티클을 생성하기 때문에 웨이퍼에 결함을 주는 파티클을 감소시키는데 도움을 줍니다.

또한, Levitronix 펌프의 컴팩트한 디자인과 높은 신뢰성은 장비를 설계하는 데에 있어 크기 및 연관된 비용을 절감시킬 수 있도록 합니다.

고정밀의 일정한 유량 및 압력 성능과 전기적인 제어 기능이 있기 때문에 Levitronix펌프는 온라인 믹싱을 위한 동적 유량제어에 이상적인 시스템입니다.