超純水 (UPW)

半導体製造においては、大量の高品質なDI水か超純水 (UPW) が必要になります。これらの純水は、主にウエハ洗浄液およびリンス液に用いられます。

超純水の品質はその清浄度に依存し、パーティクルなどの汚染物はプロセスに大きな影響を及ぼし、また直接生産の歩留まりに関連します。要求される清浄度は、ウエハチップおよび液晶ディスプレイ、ハードディスク記録メディア等の生産に用いられる構造の継続的な小型化に従って高まります。

UPWシステム – 出典:Christ
UPWシステム – 出典:Christ

FABの供給ラインすなわちプロセス設備にUPW(超純水)を送る、UPWラインにおいてポンプの磨耗を引き起こしやすい可動部分は危険な要素です。これらのパーティクルは、ウエハ表面に附着して、薄導電構造の破損や短絡を引き起こす恐れがあります。

レヴィトロニクスポンプシステム (黒線) に生じるパーティクルは、明らかに他の最新のポンプ (赤)、緑およびピンク色の線)より少ないので、ウエハ表面におけるパーティクルによる欠陥の低下に役立ちます。

CT Associates提供のデータ / グラフ: パーティクルサイズとその濃度 (ポンプ比較)
CT Associates提供のデータ / グラフ: パーティクルサイズとその濃度 (ポンプ比較)CT Associates提供のデータ / グラフ: パーティクルサイズとその濃度 (ポンプ比較)

半導体の世界では、超純水・非イオン化水の供給ラインの圧力変動は設備やプロセスにとって問題になります。複雑な製造プロセスでは、高感度の内部設備操作が予期のプロセスにて行われるよう、供給圧の安定化がますます要求されます。その結果、すべての圧力変動が歩留まりを低減させる可能性があります。

流量または圧力センサを伴った直線的な流量特性のレヴィトロニクスポンプは、、供給源の変動に影響されない安定した圧力または流量を提供するダイナミックで精密な流量制御機器です。

安定した流量 – レヴィトロニクス遠心ポンプ
安定した流量 – レヴィトロニクス遠心ポンプ
大きく変動する流量 – ダイアフラムポンプ
大きく変動する流量 – ダイアフラムポンプ
脈動した流量 – ベローズポンプ
脈動した流量 – ベローズポンプ

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