PTM-200
レビトロニクスは、ベアリングレスモータ技術に基づいたさまざまな分野に適用出来るミキサを提供します。ミキサ内蔵のロ―タはシャフトを使用せず混合タンクの壁を通して磁界を発生させ駆動します。他の磁気混合機と異なり、レビトロニクスのポンプミキサーは磁気浮上により混合容器と接触無しに磁石を回転させます。このようにミキサーは機械的摩耗が無く、パーティクルを発生させません。電子的に制御するので、カスタマイズの速度モードパターンが作り出せます。ロータトルクを電子的に精密に測定するので、粘度や密度などの流体性能が監視出来ます。
レビトロニクスのポンプミキサーは低せん断力設計でCMPスラリーや他の敏感な流体に対し、穏やかです。レビトロニクスのポンプミキサーは、通常の設計に比べ、気泡や泡などの発生が少なくなります。小型なので、混合システムに簡単に組み込めます。さらに、低騒音、低振動なので、重量センサや他の装置への影響も防止できます。
レビトロニクスのポンプミキサーはレビトロニクスポンプシステムと同じベアリングレスモータと制御装置を用いています。また、同様のインターフェイスと制御特性を持っています。ポンプのインペラとフランジはお客様の要望に応じて造ることができます。
用途
- 半導体ウェットプロセス
- CMPスラリーの希釈混合と供給
- 太陽電池製造
- FPD製造
- ハードディスク基板製造
- 印刷用インク、研磨液
- 化学薬品製造、製薬・医薬製造
ポンプミキサーPTM-200 の性能曲線
PTM-200 の特徴
| 最大差圧： | 0.16 MPa |
| 最大流量： | 20 liters/min |
| ユーザタンク容量： | 100 liter |
| 最高流体温度： | 90°C |
| 接液部品： | PFA / PTFE |
| 電源電圧： | 200 W / 24 V DC |
システムの利点
- 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて少ないです。半導体洗浄プロセスでの微粒子による汚染においては、他のポンプに比べ10～50倍微粒子の発生が少なくなります。
- 装置のアップタイムを高められます。
- バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
- 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
- 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
- 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
- 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
- 電子的に回転数をコントロールできます。
- エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。小さな取付面積で設備・装置の省スペース化を実現します。
- 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています (平均故障間隔 /MTBF> 50年)。
