LEVIBOOST™昇圧ブースター

コスト削減要求と更なる厳しい仕様

マイクロエレクトロニクスの世界では、超純水や薬液供給ラインの圧力変動が製造装置やプロセスに問題を与える可能性があります。洗練されていく製造工程において、期待されるプロセス条件内に装置の状態を保つために高度に一定な入口圧力を必要としています。結果としていかなる圧力変動もプロセスの歩留まり低下を招きかねません。

絶え間なく増加するコスト圧力により、水処理システムはしばしば限界設計されています。更なる装置の増設はしばしば不安定な給水状況につながります。その結果、制御されていない圧力変動はサイクルタイムの増加、プロセスの中断、又は装置の停止さえも引き起します。これがコストに大きな影響を与えることになります。

LEVIBOOST™ - いつでも適切な圧力
LEVIBOOST™ - いつでも適切な圧力
グラフはダイナミックに制御された圧力を示す
グラフはダイナミックに制御された圧力を示す

半導体製造工場での深刻な問題

これらの課題に対処する為、マイクロエレクトロニクス事業者はさらなる水処理インフラの増設の為、過大な投資に直面するか、既設システムを改造・最適化を強いられることになります。

残念ながら、現在のシステムでは圧力調整弁などの受動的な機器だけが使用されており、不安定な供給水圧変動に加えて、パーティクル発生の問題も抱えています。

どのように問題を解決するか

受動的な機器を使わずに能動的に制御されたシステムを利用すると、圧力を能動的に増加させるだけでなく、水量の変動に伴う圧力の変動も補償できます。

結果的に、給水圧力やプロセス装置の水量の変動に影響されず、非常に正確で一定の圧力を維持することができます。

LEVIBOOSTTM 機能図 (閉ループ制御)
LEVIBOOSTTM 機能図 (閉ループ制御)
グラフはダイナミックに制御された圧力を示す
グラフはダイナミックに制御された圧力を示す

LEVIBOOST 動作原理

圧力トランスミッタは、装置に供給されている圧力をモニタし、その実際値 (PV) をポンプコントローラにを送ります。ユニットに内蔵された磁気浮上・電子制御ポンプは必要とされる設定圧力 (SV) に基づいて、ダイナミックに設定値まで圧を増加させます。

そうすることで、この閉ループ圧力制御デザインは供給圧力の変動だけでなく、プロセス装置内のユースポイント毎の水量の違いによる圧力変動も相殺します。