他のマイクロエレクトロニクスの技術的な応用
上記の応用のほか、他の多くの半導体/マイクロエレクトロニクスプロセスにも使われています。例えば、下記のものが挙げられます。
- バルク化学薬液の移送
- バッチ洗浄装置の再循環
- CMP後の洗浄
- 液浸式露光装置
- 感光レジストの移送
- デベロッパ（現像液）の再循環
上記の応用の共通点は、清浄度、低パーティクル数、連続流量または穏やか移送が必要なメディアです。革命的なレヴィトロニクス遠心ポンプは、これらの要求に応えられ、また信頼性が高くお客様にとってコストの低いソリューションを提供することができます。
レビトロニクス流体処理ソリューションの利点
- 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて少ないです。半導体洗浄プロセスでの微粒子による汚染においては、他のポンプに比べ10～50倍微粒子の発生が少なくなります。
- 装置のアップタイムを高められます。
- バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
- 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
- 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
- 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
- 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
- 二種類のコントローラで様々な制御が可能です。
- 電子的に回転数をコントロールできます。
- エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。小さな取付面積で設備・装置の省スペース化を実現します。
- 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています (平均故障間隔 /MTBF> 50年)。