BPS-2000 大流量型

BPS-2000ポンプシステムは摩耗する恐れのある軸受がなく、液漏れの恐れのある軸封も使用しない、画期的な遠心ポンプです。磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。インペラとケーシングは、共に耐薬液性の高い高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ-タ磁石と共にポンプヘッドを構成しています。

2種類の基本システム構成があります。一つの構成はユーザパネルを搭載したコントローラを使用し、手動で回転数を設定し運転するスタンド・アロン方式と呼ばれるものです。もう一方の構成はエクステンド方式と呼ばれるもので、PLCインターフェイス搭載のコントローラで、外部信号で回転数を設定できます。また、流量計あるいは圧力計の信号によりクローズドループのフィードバック制御で、流量又は圧力の制御ができます。

用途

  • 半導体ウェットプロセス (洗浄、CMP等)
  • PCB、電子部品メッキ
  • 太陽電池製造
  • FPD製造
  • ハードディスク基板製造
  • 印刷用インク、研磨液
  • 化学薬品製造、製薬・医薬製造
  • EL薬品/ファインケミカル製造
  • 超純水の昇圧ブースター

BPS-2000大流量型の性能曲線

BPS-2000大流量型の性能曲線

BPS-2000大流量型の特徴

最大差圧: 0.42 MPa
最大流量: 140 liters/min
最高流体温度: 90°C
接液部品: PFA
電源電圧: 2000 W / 単相/3相 200-240 V AC

システムの利点

  • 機械的に接触する部分がないので、パーティクルの発生が極めて少ないです。半導体洗浄プロセスでの微粒子による汚染においては、他のポンプに比べ10~50倍微粒子の発生が少なくなります。
  • 装置のアップタイムを高められます。
  • バルブ、軸受、軸封等が使われていないので、費用のかさむ定期的な分解修理が不要、維持費がかかりません。
  • 磁気軸受デザインなので、汚染リスクがないです。
  • 剪断等で影響を受けやすい流体に対し、穏やかなポンプです。
  • 狭い隙間や溝がないシンプルな構造で、液体の残渣等がポンプケーシング内に滞留しません。
  • 脈動が無い、スムースな定常流を得られます。
  • 二種類のコントローラで様々な制御が可能です。
  • 電子的に回転数をコントロールできます。
  • エア駆動ベローズポンプ、遠心式マグネットポンプより小型です。小さな取付面積で設備・装置の省スペース化を実現します。
  • 医療及び半導体業界で実績のあるオリジナル技術を採用しています (平均故障間隔 /MTBF> 50年)。
Levitronix BPS-2000 大流量型
最高の性能と最小のフットプリント

ダウンロード