超純水（UPW）

製造微電子元件需要大量高品質去離子水（DI水）或超純水（UPW）。這些水主要用於晶圓清洗液和用於沖洗。

超純水品質取決於其潔淨度，顆粒等，污染物對製程過程產生極大影響並且直接關係到產品良率。 所要求的潔淨度隨晶圓晶片結構以及平板顯示器和儲存介質生產中所用結構的不斷小型化而提高。

因通過晶圓廠超純水供給管線上之移動零件或配件或是泵磨損生的顆粒都可能附著於晶圓表面並造成薄導電結構損壞或短路

LEVITRONIX泵系統（黑線）產生的微粒明顯少於其它泵（紅、綠及粉色線），因此有助於減少晶圓表面因微粒造成的缺陷。

在微電子製程中，超純水或是去離子水供應管路內壓力的變動對於製程或設備可能是個問題。複雜的製造處理過程越來越要求進入口壓力高度穩定，以保持設備機台內部靈敏的製程區間。其結果是，任何壓力波動都可能減少製程良率

根據線性流量特性，整合流量計或壓力感測器的LEVITRONIX泵成為一種高動態和精確的流量控制器，產生非常穩定的壓力或不受供應源波動影響的流量。