LEVIBOOST™增壓器組件

更高的成本壓力、更嚴格的技術要求

在微電子學中,對於變化的過程,超純水、去離子水和化學品供給管線內的全域壓力變化可能是一個問題。複雜的製造過程越來越要求在進入口壓力的高度穩定,以使在敏感的製程設備內部操作保持在預期過程視窗內。其結果是,任何壓力波動都可能減少製程良率。

因為成本壓力不斷增加,介質供應系統時常被設計處於其極限狀態。進一步的設備產能擴展常常導致供水不穩定。結果,失控的壓力波動可能會引起回應時間延長、製程中斷甚至設備停機。結果產生更大的成本衝擊。

始終處於適合的壓力
始終處於適合的壓力
圖表顯示典型失控的壓力波動
圖表顯示典型失控的壓力波動

FABS生產中的嚴重問題

為應對這些挑戰,微電子生產商們或者大量投資增添水處理設施,或者嘗試努力優於現已安裝的系統。

遺憾的是,通常使用的只是調壓閥等被動元件,這些元件時常導致水壓暫時性不穩定以及高微粒污染。

如何才能解決問題?

與使用被動元件相比,主動受控系統不僅主動增加,還能補償用水消耗。

結果產生非常精確和穩定的壓力,此壓力與供水壓力及製程設備的耗水量無關。

LEVIBOOST™功能圖
LEVIBOOST™功能圖
圖表顯示動態控制壓力
圖表顯示動態控制壓力

工作原理

壓力感測器監測設備的當前輸入壓力並向泵控制器傳送實際數值。根據所需的設定壓,磁懸浮和電子控制泵動態增加水壓至指定的設定點。

這樣一來,本閉迴路壓力控制設計不僅補償供壓波動,還對連線加工工具中個別工具的耗水量所引起的壓力波動進行補償。